Bád Comhdhúile Sileacan

Bád wafer ingearach SiC Iarratas: Báid wafer ingearach SiC don tionscal leathsheoltóra,Tionscal fótaileictreach faoi stiúir,fuinneamh na gréine agus tionscail eile;próiseas idirleathadh,próiseas ocsaídiúcháin tirim,próiseas ocsaídiúcháin fliuch,próiseas faghartha,próiseas sil-leagain gal ceimiceach. Ceanglais gné: Neart teocht ard Cobhsaíocht cheimiceach teocht ard Gan eisiúint cáithníní Cén fáth go bhfuil Kallex níos fearr ná a chéile: Taithí fairsing i mbád SiC le haghaidh dearadh saincheaptha Seachadadh ardchaighdeáin agus tapa Ag baint úsáide as ábhar dlúth chomhdhúile sileacain shintéirithe Teocht oibriúcháin uasta 1,800˚C. Costas ard-cóimheas feidhmíochta agus iomaíoch Saol fada buan Sonraíochtaí:   Méid wafer is infheidhme:6 orlach,8 n-orlach,12 orlach Le haghaidh trealamh TEL

Bád wafer babhta cothrománach SiC Iarratas: Úsáidtear báid sliseog bhabhta cothrománacha SiC go forleathan mar shealbhóir sliseog i bpróisis idirleathadh ardteochta sa tionscal leathsheoltóra. Riachtanais gné: Neart teocht ard Cobhsaíocht cheimiceach teocht ard Frithsheasmhach in aghaidh creimeadh aigéad agus alcaile Gan eisiúint cáithníní Cén fáth go bhfuil Kallex níos fearr ná a chéile: Ar fáil i sonraíochtaí éagsúla,ag soláthar seirbhísí saincheaptha freisin Seachadadh ardchaighdeáin agus tapa Ag baint úsáide as ábhar dlúth chomhdhúile sileacain shintéirithe Is féidir leis an teocht oibriúcháin uasta 1 a bhaint amach,800˚C. Fadhb dífhoirmithe ar bith Costas ard-cóimheas feidhmíochta agus iomaíoch Saol fada buan

Bád wafer cearnach cothrománach SiC Iarratas: Úsáidtear báid sliseog chearnacha chothrománacha SiC go forleathan mar shealbhóir sliseog i bpróisis idirleathadh teocht ard i dtionscal na gceall sola.   Ceanglais gné: Neart teocht ard Cobhsaíocht cheimiceach teocht ard Gan eisiúint cáithníní Gan aon fhadhbanna dífhoirmithe ag teocht ard Cén fáth go bhfuil Kallex níos fearr ná a chéile: Trí thionól ábhar chomhdhúile sileacain shintéirithe dlúth Ar fáil le haghaidh sonraíochtaí éagsúla,ag soláthar seirbhísí saincheaptha freisin Seachadadh ardchaighdeáin agus tapa Teocht oibriúcháin uasta 1,800˚C. I gcomparáid leis an mbád grianchloch,is féidir leis an mbád chomhdhúile sileacain ráta úsáide an trealaimh a fheabhsú Costas ard-cóimheas feidhmíochta agus iomaíoch Saol fada buan Sonraíochtaí:   Méid wafer is infheidhme:4 orlach~5 orlach

Bád wafer cothrománach SiC Iarratas: Úsáidtear báid wafer cothrománacha SiC go forleathan mar shealbhóir sliseog i bpróisis idirleathadh ardteochta i dtionscal leathsheoltóra scoite. Riachtanais gné: Neart teocht ard Cobhsaíocht cheimiceach teocht ard Gan eisiúint cáithníní Laghdaigh an costas Áisiúlacht Cén fáth go bhfuil Kallex níos fearr ná a chéile: Ar fáil i sonraíochtaí éagsúla,ag soláthar seirbhísí saincheaptha freisin Seachadadh ardchaighdeáin agus tapa Ag baint úsáide as ábhar dlúth chomhdhúile sileacain shintéirithe Is féidir leis an teocht oibriúcháin uasta 1 a bhaint amach,800˚C. Costas ard-cóimheas feidhmíochta agus iomaíoch Saol fada buan Is féidir leis cáilíocht agus aschur wafer a fheabhsú Sábháil costais a bhaineann leis an bpróiseas Sonraíochtaí: Méid wafer is infheidhme:3 orlach~6 orlach

Bád wafer SiC LPCVD Iarratas: Báid wafer SiC LPCVD don tionscal leathsheoltóra,fuinneamh na gréine agus tionscail eile;próiseas idirleathadh,próiseas ocsaídiúcháin tirim,próiseas ocsaídiúcháin fliuch,próiseas annealaithe agus próiseas sil-leagain. Ceanglais gné: Neart teocht ard agus cumas luchtaithe ard Cobhsaíocht cheimiceach teocht ard Gan eisiúint cáithníní Gan aon fhadhbanna dífhoirmithe ag teocht ard Cén fáth go bhfuil Kallex níos fearr ná a chéile: Ar fáil le haghaidh sonraíochtaí éagsúla,ag soláthar seirbhísí saincheaptha freisin Seachadadh ardchaighdeáin agus tapa I gcomparáid leis an mbád grianchloch,ní amháin go bhfuil saolré fada ag an mbád chomhdhúile sileacain ach is féidir leis ráta tríothu an trealaimh a fheabhsú Costas ard-iomaíochas éifeachtach agus ard Saol fada buan IV Sonraíochtaí: Méid wafer is infheidhme:6 orlach cearnach Le haghaidh trealamh Centrotherm

Bád wafer SiC BBr3 Iarratas: Úsáidtear báid wafer SiC BBr3 go forleathan mar shealbhóir wafer i bpróisis idirleathadh teocht ard i dtionscal na gcealla gréine. Ceanglais gné: Neart teocht ard agus cumas luchtaithe ard Frithsheasmhach in aghaidh creimeadh aigéad agus alcaile Cobhsaíocht cheimiceach teocht ard Gan eisiúint cáithníní Gan aon fhadhbanna dífhoirmithe ag teocht ard Cén fáth go bhfuil Kallex níos fearr ná a chéile: Taithí fairsing i mbád SiC le haghaidh dearadh saincheaptha Seachadadh ardchaighdeáin agus tapa Teocht oibriúcháin uasta 1,800˚C. Feabhas a chur ar cháilíocht wafer agus trí chur OEM agus ODM IV Sonraíochtaí: Méid wafer is infheidhme:6 orlach cearnach