Leathsheoltóir Comhdhúile Sileacan

Iompróir SiC Iarratas: Is minic a chuirtear wafer tanaí mhór ar iompróir SiC atá ceangailte le gineadóir folúis,agus socraítear an wafer trí shúchán folúis.Tá sé áisiúil le haghaidh céirithe,tanú,dewaxing,próisis ghlantacháin agus ghearrtha i réimse na dtionscal leathsheoltóra agus optoelectronic. Riachtanais gné: Seoltacht theirmeach maith chun an t-am próisis céirithe agus dewaxing a ghiorrú,ráta táirgeachta a fheabhsú,agus éifeachtúlacht táirgeachta a mhéadú Tá an méid pore beag agus dáilte go maith,agus déanann sé gach réigiún beag logánta den wafer iomlán a fhógairt go cothrom Friotaíocht aigéad agus alcaile Cén fáth go bhfuil Kallex níos fearr ná a chéile: Is féidir méideanna agus sonraíochtaí éagsúla a shaincheapadh Ag flatness maith,comhthreomhaireacht,an dromchla réidh,agus ní dhéanfaidh sé an wafer a scríobadh Cáilíocht chobhsaí agus seachadadh tapa

Breiseán SiC DC Iarratas: Trealamh leathsheoltóra’s páirteanna próisis eitseála miotail Riachtanais gné: Friotaíocht ar bhuamáil plasma Gan eisiúint cáithníní Cruas ard agus friotaíocht caitheamh maith Friotaíocht ard creimeadh Cobhsaíocht mhaith cheimiceach Cén fáth go bhfuil Kallex níos fearr ná a chéile: Seirbhísí saincheaptha Cáilíocht chobhsaí agus seachadadh tapa Soláthar seasmhach ar feadh níos mó ná 20 bliain Saol fada buan Éasca le sábháil agus costas íseal cothabhála Costas ard-cóimheas feidhmíochta agus iomaíoch Sciar ard den mhargadh

Méar SiC(forc) Iarratas: Úsáidtear méara SiC i dtrealamh aistrithe wafer uathoibrithe a cuireadh i bhfeidhm go forleathan sa leathsheoltóir,optoelectronic,tionscail fuinnimh gréine. Riachtanais gné: Is féidir an impedance dromchla a rialú idir 106~108Ω ,a chomhlíonann frith-Sonraíochtaí ESD Is furasta an dromchla a ghlanadh gan na fadhbanna a bhíonn mar thoradh ar cháithnín Cruas ard,friotaíocht abrasion Ard-dolúbthacht,turraing mhaith-ag seasamh,ní furasta a lúbadh agus a dhífhoirmiú le fada-téarma ag úsáid Éadrom,aimplitiúid tonnchrith beag Cén fáth go bhfuil Kallex níos fearr ná a chéile: Saol fada buan agus costas cothabhála a laghdú Seirbhísí saincheaptha Cineálacha éagsúla agus oiriúnach do gach trealamh Seachadadh ardchaighdeáin agus tapa Cobhsaíocht mhaith aistrithe wafer,na míbhuntáistí a bhaineann le méar alúmana traidisiúnta a fheabhsú

Imeall SiC(fócas)fáinne Iarratas: Úsáidtear fáinne imeall SiC i bpróiseas eitseála wafer sileacain. Riachtanais gné: Friotaíocht mhaith i gcoinne bombardú plasma Frithsheasmhach in aghaidh creimeadh gáis Turraing iontach teirmeach agus friotaíocht brú teirmeach Dromchla éasca a ghlanadh,gan eisiúint cáithníní Fada-ní lúbfaidh agus dífhoirmíonn úsáid téarma Cén fáth go bhfuil Kallex níos fearr ná a chéile: Seirbhísí saincheaptha Go leor cineálacha ar fáil Cáilíocht chobhsaí agus seachadadh tapa

Pláta clúdaigh SiC Iarratas: Úsáidtear pláta clúdaigh SiC mar shealbhóir le linn phróiseas fáis scannáin tanaí Si wafer sa tionscal leathsheoltóra. Riachtanais gné: Seoltacht ard theirmeach agus aonfhoirmeacht teocht an dromchla Friotaíocht mhaith turraing theirmeach agus friotaíocht brú teirmeach Dromchla éasca a ghlanadh,gan eisiúint cáithníní Tá cobhsaíocht mhaith ag an bpróiseas brataithe Cén fáth go bhfuil Kallex níos fearr ná a chéile: Seirbhísí saincheaptha Gach cineál agus oiriúnach do gach trealamh Seachadadh ardchaighdeáin agus tapa

Nano-réiteach aonrúcháin Iarratas: Córais folúis sa tionscal leathsheoltóra Córais folúis i dtionscal LED Córais folúis i dtionscal LCD Balla istigh agus dromchla rotor na caidéil Líne caidéalaithe i bhfolús Riachtanais gné: Cosc ar bhata Cosc a chur ar ocsaídiú Cosc a chur ar chreimeadh Cén fáth go bhfuil Kallex níos fearr ná a chéile: Marthanacht mhaith Feidhmíocht mhaith chun damáiste ceimiceach a chosc Feidhmíocht mhaith chun bata cáithníní a chosc Feidhmíocht mhaith le haghaidh uiscedhíonach Éicea-ábhar cairdiúil Feidhmíocht mhaith frith-greamaitheacht agus éasca le húsáid