स्पेसर
हम एक अग्रणी और तकनीकी वैश्विक निर्यातक, आपूर्तिकर्ता और निर्माता हैं स्पेसर। इसके अलावा, हम हमेशा कस्टम संश्लेषण परियोजनाओं को लेने के लिए तैयार हैं। इन वर्षों में, हमने सबसे अधिक प्रतिस्पर्धी मूल्य और समय पर डिलीवरी के साथ सर्वोत्तम गुणवत्ता वाले उत्पाद प्रदान करने के लिए एक प्रतिष्ठा बनाई है। हम दुनिया भर में ग्राहकों को सेवा प्रदान करते हैं, संयुक्त राज्य अमेरिका, कनाडा, यूरोप, भारत, जापान आदि। उच्च गुणवत्ता वाले उत्पादों की उचित कीमतों पर तेजी से वितरण के माध्यम से, हम कई ग्राहकों के "पसंदीदा आपूर्तिकर्ता" बन गए हैं।
उच्च गुणवत्ता
स्पेसर
और अच्छी बिक्री के बाद सेवा हमारे निरंतर पीछा है, हम भविष्य के व्यापार संबंधों और आपसी सफलता के लिए हमसे संपर्क करने के लिए जीवन के सभी क्षेत्रों से नए और पुराने ग्राहकों का स्वागत करते हैं!स्पेसर
आदर्श - Nano-Isolation-E-54
नैनो-अलगाव समाधान
आवेदन:
सुविधा की आवश्यकताएं:
क्यों Kallex दूसरों की तुलना में बेहतर है:
आवेदन:
- सेमीकंडक्टर उद्योग में वैक्यूम सिस्टम
- एलईडी उद्योग में वैक्यूम सिस्टम
- एलसीडी उद्योग में वैक्यूम सिस्टम
- पंप की भीतरी दीवार और रोटर की सतह
- वैक्यूम पंपिंग लाइन
सुविधा की आवश्यकताएं:
- छड़ी को रोकें
- ऑक्सीकरण को रोकें
- जंग को रोकें
क्यों Kallex दूसरों की तुलना में बेहतर है:
- अच्छा स्थायित्व
- रासायनिक क्षति को रोकने के लिए अच्छा प्रदर्शन
- कण छड़ी को रोकने के लिए अच्छा प्रदर्शन
- जलरोधक के लिए अच्छा प्रदर्शन
- पारिस्थितिकी-अनुकूल सामग्री
- विरोधी का अच्छा प्रदर्शन-आसंजन और प्रयोग करने में आसान
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Nano-Isolation-E-54
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SiC-Carrier-B-12
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SiC वाहक
आवेदन:
अत्यधिक पतली वेफर को अक्सर वैक्यूम जनरेटर से जुड़े SiC वाहक पर रखा जाता है,और वेफर वैक्यूम सक्शन द्वारा तय किया गया है.यह वैक्सिंग के लिए सुविधाजनक है,पतले,डीवैक्सिंग,सेमीकंडक्टर और ऑप्टोइलेक्ट्रोनिक उद्योगों के क्षेत्र में सफाई और काटने की प्रक्रिया.
सुविधा की आवश्यकताएं:
वैक्सिंग और डीवैक्सिंग की प्रक्रिया के समय को छोटा करने के लिए अच्छी तापीय चालकता,उत्पादन दर में सुधार,और उत्पादन क्षमता में वृद्धि
छिद्र का आकार छोटा और अच्छी तरह से वितरित है,और पूरे वेफर के प्रत्येक छोटे स्थानीयकृत क्षेत्र को समान रूप से adsorbs
एसिड और क्षार प्रतिरोध
क्यों Kallex दूसरों की तुलना में बेहतर है:
विभिन्न आकारों और विशिष्टताओं को अनुकूलित किया जा सकता है
अच्छा सपाट होना,समानता,चिकनी सतह,और वेफर को खरोंच नहीं करेगा
स्थिर गुणवत्ता और तेजी से वितरण
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SiC-DC Plug-B-14
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SiC डीसी प्लग आवेदन: अर्धचालक उपकरण’एस धातु नक़्क़ाशी प्रक्रिया भागों. सुविधा की आवश्यकताएं: प्लाज्मा बमबारी के लिए प्रतिरोध कोई कण मुद्दा उच्च कठोरता और अच्छा पहनने के प्रतिरोध उच्च संक्षारण प्रतिरोध अच्छा रासायनिक स्थिरता क्यों Kallex दूसरों की तुलना में बेहतर है: अनुकूलित सेवाएं स्थिर गुणवत्ता और तेजी से वितरण 20 से अधिक वर्षों के लिए सख्ती से आपूर्ति लंबे समय तक चलने वाला जीवन बचाने के लिए आसान और रखरखाव की कम लागत अत्यधिक लागत-प्रदर्शन अनुपात और प्रतिस्पर्धी उच्च बाजार हिस्सेदारी
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SiC-Finger-D-26
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सी आई सी उँगली(कांटा) आवेदन: SiC उंगलियों का उपयोग ऑटोमेशन वेफर ट्रांसफर उपकरण में किया जाता है जिसे व्यापक रूप से सेमीकंडक्टर, ऑप्टोइलेक्ट्रोनिक, सौर ऊर्जा उद्योगों में लागू किया गया है।. सुविधा की आवश्यकताएं: सतह प्रतिबाधा को के बीच नियंत्रित किया जा सकता है 106~108Ω ,जो विरोधी से मिलता है-ESD विनिर्देशों कण के कारण होने वाली समस्याओं के बिना सतह को साफ करना आसान है उच्च कठोरता,घर्षण प्रतिरोध उच्च कठोरता,अच्छा झटका-विरोध,लंबे समय तक झुकना और ख़राब करना आसान नहीं है-शब्द का उपयोग कर हल्के वजन,छोटे कंपन आयाम क्यों Kallex दूसरों की तुलना में बेहतर है: लंबे समय तक चलने वाला जीवन और रखरखाव का खर्च कम करना अनुकूलित सेवाएं विभिन्न प्रकार के और प्रत्येक उपकरण के लिए उपयुक्त उच्च गुणवत्ता और तेजी से वितरण वेफर ट्रांसफर की अच्छी स्थिरता,पारंपरिक एल्यूमिना उंगली के नुकसान में सुधार
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SiC-Edge Ring-D-29
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SiC बढ़त(फोकस)अंगूठी
आवेदन:
SiC एज रिंग का उपयोग सिलिकॉन वेफर नक़्क़ाशी प्रक्रिया में किया जाता है.
सुविधा की आवश्यकताएं:
प्लाज्मा बमबारी के लिए अच्छा प्रतिरोध
उत्कृष्ट गैस संक्षारण प्रतिरोधी
अद्भुत थर्मल शॉक और थर्मल स्ट्रेन प्रतिरोध
साफ सतह के लिए आसान है,कण मुद्दे के बिना
लंबा-शब्द का उपयोग मोड़ और ख़राब नहीं होगा
क्यों Kallex दूसरों की तुलना में बेहतर है:
अनुकूलित सेवाएं
कई प्रकार उपलब्ध हैं
स्थिर गुणवत्ता और तेजी से वितरण
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SiC-Cover Plate-D-30
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https://www.sicceramics.com.tw/sic-power-semiconductor.html
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SiC कवर प्लेट
आवेदन:
SiC कवर प्लेट का उपयोग सेमीकंडक्टर उद्योग में Si wafer पतली फिल्म विकास प्रक्रिया के दौरान एक धारक के रूप में किया जाता है.
सुविधा की आवश्यकताएं:
उच्च तापीय चालकता और सतह के तापमान की एकरूपता
अच्छा थर्मल शॉक प्रतिरोध और थर्मल स्ट्रेन प्रतिरोध
साफ सतह के लिए आसान है,कण मुद्दे के बिना
कोटिंग की प्रक्रिया में अच्छी स्थिरता है
क्यों Kallex दूसरों की तुलना में बेहतर है:
अनुकूलित सेवाएं
सभी प्रकार के प्रकार और प्रत्येक उपकरण के लिए उपयुक्त
उच्च गुणवत्ता और तेजी से वितरण