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繁體中文SiC प्लेट्स
Kallex Co., Ltd. एक पेशेवर में से एक है SiC प्लेट्स में वर्षों के अनुभव के साथ निर्माता और आपूर्तिकर्ता Taiwan। किसी भी मात्रा का स्वागत किया है। आक्रामक ध्यान के साथ, हम हमेशा आपको बाजार में सबसे अच्छी कीमत और सेवा के साथ नवीनतम वस्तुओं की पेशकश कर सकते हैं। हम भी OEM, ODM आदेश स्वीकार करते हैं। मजबूत पृष्ठभूमि डिजाइनर और निर्माण सुविधा के साथ, हम विभिन्न ब्रांडेड ग्राहकों के लिए उत्पादन करते हैं। एक बार जब आप कोशिश करते हैं, तो आप निश्चित रूप से हमारे उत्पाद और सेवा से संतुष्ट होंगे।
वे अत्यधिक कुशल हैं और उपयोग की प्रक्रिया में उत्कृष्ट सेवा प्रदान करते हैं। हम यह सुनिश्चित करते हैं कि ये
SiC प्लेट्स
हमारे ग्राहकों द्वारा उत्कृष्ट गुणवत्ता वाले उत्पादों की पेशकश करने के लिए अंतरराष्ट्रीय गुणवत्ता मानकों का उपयोग करके हमारे विक्रेताओं द्वारा निर्मित किया जाता है।
SiC प्लेट्स
आदर्श - SiC-PSS-B-07
PSS के लिए SiC प्लेट
आवेदन:
सुविधा की आवश्यकताएं:
क्यों Kallex दूसरों की तुलना में बेहतर है:
विशेष विवरण:
आवेदन:
- SiC प्लेट का इस्तेमाल PSS के लिए एक वेफर होल्डर के रूप में किया जाता है(पैटर्न नीलमणि सब्सट्रेट)एलईडी उद्योगों में नक़्क़ाशी की प्रक्रिया.
सुविधा की आवश्यकताएं:
- ऊष्मीय चालकता
- प्लाज्मा बमबारी के लिए प्रतिरोधी
- अच्छा तापमान एकरूपता
क्यों Kallex दूसरों की तुलना में बेहतर है:
- विभिन्न विशिष्टताओं में उपलब्ध है,अनुकूलित सेवाएं प्रदान करना
- स्थिर गुणवत्ता और तेजी से वितरण
- उच्च लागत-प्रदर्शन अनुपात और प्रतिस्पर्धी
- ट्रे बनाने में व्यापक अनुभव
- मूल कारखाने द्वारा प्रमाणित
विशेष विवरण:
- SiC प्लेट φ340 मिमी × 2 मिमी (2 इंच * 26 जेब)
- SiC प्लेट φ340 मिमी × 2 मिमी (4 इंच * 7 जेब)
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SiC-PSS-B-07
none
999999999
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2020-12-31
https://www.sicceramics.com.tw/hi/sic-plates.html
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उत्पाद सूची
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सर्वश्रेष्ठ SiC प्लेट्स खोजने और खरीदने के लिए, आपको SiC प्लेट्स निर्माता, आपूर्तिकर्ता, थोक व्यापारी, वितरक, OEM और ODM से उच्चतम गुणवत्ता के बारे में जानना होगा। एक कारखाने मेंTaiwan
SiC-ICP-B-05
none
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2020-12-31
https://www.sicceramics.com.tw/silicon-carbide-plates.html
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ICP नक़्क़ाशी प्रक्रिया के लिए SiC प्लेट
आवेदन:
एलईडी उद्योग में ICP नक़्क़ाशी प्रक्रिया के लिए SiC प्लेट को एक वेफर धारक के रूप में उपयोग किया जाता है.
सुविधा की आवश्यकता:
उत्कृष्ट तापीय चालकता
प्लाज्मा शॉक के लिए प्रतिरोधी
अच्छा तापमान एकरूपता
क्यों Kallex दूसरों की तुलना में बेहतर है:
विभिन्न विशिष्टताओं में उपलब्ध है,अनुकूलित सेवाएं प्रदान करना
स्थिर गुणवत्ता और तेजी से वितरण
सेवा को नवीनीकृत करें
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सर्वश्रेष्ठ SiC प्लेट्स खोजने और खरीदने के लिए, आपको SiC प्लेट्स निर्माता, आपूर्तिकर्ता, थोक व्यापारी, वितरक, OEM और ODM से उच्चतम गुणवत्ता के बारे में जानना होगा। एक कारखाने मेंTaiwan
SiC-RTA-B-06
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https://www.sicceramics.com.tw/sic-plate.html
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आरटीए के लिए SiC प्लेट आवेदन: SiC प्लेट का व्यापक रूप से RTA में वेफर धारक के रूप में उपयोग किया जाता है(तेजी से थर्मल annealing)एलईडी और अर्धचालक उद्योगों में प्रक्रिया. सुविधा की आवश्यकताएं: अच्छी तापीय चालकता अच्छा थर्मल शॉक प्रतिरोध थर्मल विस्तार का कम गुणांक अच्छा तापमान एकरूपता क्यों Kallex दूसरों की तुलना में बेहतर है: विभिन्न विशिष्टताओं में उपलब्ध है,अनुकूलित सेवाएं प्रदान करना उच्च गुणवत्ता और तेजी से वितरण OEM और ODM
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SiC-PVD-B-08
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2020-12-31
https://www.sicceramics.com.tw/pvd-plate.html
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PVD के लिए SiC प्लेट
आवेदन:
एलईडी उद्योगों में एल्यूमीनियम नाइट्राइड फिल्म विकास की पीवीडी प्रक्रिया के लिए SiC प्लेट का व्यापक रूप से एक वफ़र धारक के रूप में उपयोग किया जाता है.
सुविधा की आवश्यकताएं:
उत्कृष्ट तापीय चालकता
अच्छा तापमान एकरूपता
अच्छा थर्मल शॉक प्रतिरोध
क्यों Kallex दूसरों की तुलना में बेहतर है:
विभिन्न विशिष्टताओं में उपलब्ध है,अनुकूलित सेवाएं प्रदान करना
उच्च गुणवत्ता और तेजी से वितरण
पूरी तरह से सघन,बाहर नहीं-गेसिंग इश्यू
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SiC-Pin Tray-B-09
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2020-12-31
https://www.sicceramics.com.tw/pin-tray.html
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SiC पिन ट्रे
आवेदन:
एलईडी उद्योग में आईसीपी नक़्क़ाशी प्रक्रिया के लिए SiC पिन ट्रे सामान्य पॉकेट प्रकारों की ट्रे को बदल सकती है.
सुविधा की आवश्यकताएं:
उत्कृष्ट तापीय चालकता
प्लाज्मा बमबारी के लिए प्रतिरोध
अच्छा तापमान एकरूपता
क्यों Kallex दूसरों की तुलना में बेहतर है:
विशेष पेटेंट डिजाइन,प्राप्त आरओसी पेटेंट प्रमाण पत्र:नया नहीं.M555559-नया नाम:वेफर कैरियर
प्रक्रिया में ग्राहकों के सुधार में सहायता करें
अत्यधिक लागत-प्रदर्शन अनुपात और उच्च प्रतिस्पर्धी
वेफर में प्रत्येक छोटे आंशिक क्षेत्र की समरूपता में सुधार
एक ही वाहक में वेफर्स के बीच प्रक्रिया के परिणामों के अंतर को कम करें
अंतिम जीवन सामान्य प्रकार की जेब से चौगुना है,जो प्लेट की उपयोग लागत को बहुत बचा सकता है
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SiC-Star Disc-B-10
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https://www.sicceramics.com.tw/silicon-carbide-disc.html
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SiC स्टार डिस्क
आवेदन:
III के लिए MOCVD प्रतिक्रिया कक्ष में SiC केंद्र प्लेट और डिस्क का उपयोग किया जाता है-वी यौगिक अर्धचालक उपकला प्रक्रिया.
सुविधा की आवश्यकताएं:
उच्च तापमान प्रतिरोधी
उच्च तापीय चालकता
कोई कण मुद्दा
अच्छा थर्मल स्थिरता
क्यों Kallex दूसरों की तुलना में बेहतर है:
अनुकूलित सेवाएं
स्थिर गुणवत्ता और तेजी से वितरण
एक्यूपॉइंट में फ्लैटनेस अच्छी है
अत्यधिक लागत-प्रदर्शन अनुपात
लंबे समय तक चलने वाला जीवन