एक अग्रणी निर्माता, आपूर्तिकर्ता और निर्यातक के रूप में Taiwan, हम विशेषज्ञ हैं सिलिकॉन कार्बाइड प्लेट विनिर्माण। हम उत्पाद के विकास, बिक्री और स्थापित करने में दशक से अधिक समृद्ध अनुभव रखते हैं, हमारे उत्पादों ने घरेलू और oversea में शानदार प्रतिष्ठा प्राप्त की है। हमारी कंपनी उच्च गुणवत्ता वाले उत्पादों, सर्वोत्तम सेवाओं और अच्छी प्रतिष्ठा के साथ, एक महान ग्राहकों का समर्थन जीत चुकी है, और अधिक ताकत और शक्तिशाली बन गई है, पैमाने का विस्तार किया गया है और हमारे पास खुद का कारख़ाना है।

सिलिकॉन कार्बाइड प्लेट

Kallex Co., Ltd.
सर्वोत्तम <खोजने के लिए सिलिकॉन कार्बाइड प्लेट, आपको उच्चतम गुणवत्ता के बारे में जानने की आवश्यकता हैसिलिकॉन कार्बाइड सैंडिंग डिस्क निर्माता, आपूर्तिकर्ता, थोक व्यापारी, और वितरक, OEM और ODM एक कारखाने से Taiwan में
SiC-ICP-B-05
none
999999999 http://schema.org/InStock USD 2020-12-31
90out of 100based on 100user ratings
ICP नक़्क़ाशी प्रक्रिया के लिए SiC प्लेट आवेदन: एलईडी उद्योग में ICP नक़्क़ाशी प्रक्रिया के लिए SiC प्लेट को एक वेफर धारक के रूप में उपयोग किया जाता है. सुविधा की आवश्यकता: उत्कृष्ट तापीय चालकता प्लाज्मा शॉक के लिए प्रतिरोधी अच्छा तापमान एकरूपता क्यों Kallex दूसरों की तुलना में बेहतर है: विभिन्न विशिष्टताओं में उपलब्ध है,अनुकूलित सेवाएं प्रदान करना स्थिर गुणवत्ता और तेजी से वितरण सेवा को नवीनीकृत करें
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SiC-RTA-B-06
none
999999999 http://schema.org/InStock USD 2020-12-31
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आरटीए के लिए SiC प्लेट आवेदन: SiC प्लेट का व्यापक रूप से RTA में वेफर धारक के रूप में उपयोग किया जाता है(तेजी से थर्मल annealing)एलईडी और अर्धचालक उद्योगों में प्रक्रिया. सुविधा की आवश्यकताएं: अच्छी तापीय चालकता अच्छा थर्मल शॉक प्रतिरोध थर्मल विस्तार का कम गुणांक अच्छा तापमान एकरूपता क्यों Kallex दूसरों की तुलना में बेहतर है: विभिन्न विशिष्टताओं में उपलब्ध है,अनुकूलित सेवाएं प्रदान करना उच्च गुणवत्ता और तेजी से वितरण OEM और ODM
Kallex Co., Ltd.
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SiC-PSS-B-07
none
999999999 http://schema.org/InStock USD 2020-12-31
90out of 100based on 100user ratings
PSS के लिए SiC प्लेट आवेदन: SiC प्लेट का इस्तेमाल PSS के लिए एक वेफर होल्डर के रूप में किया जाता है(पैटर्न नीलमणि सब्सट्रेट)एलईडी उद्योगों में नक़्क़ाशी की प्रक्रिया. सुविधा की आवश्यकताएं: ऊष्मीय चालकता प्लाज्मा बमबारी के लिए प्रतिरोधी अच्छा तापमान एकरूपता क्यों Kallex दूसरों की तुलना में बेहतर है: विभिन्न विशिष्टताओं में उपलब्ध है,अनुकूलित सेवाएं प्रदान करना स्थिर गुणवत्ता और तेजी से वितरण उच्च लागत-प्रदर्शन अनुपात और प्रतिस्पर्धी ट्रे बनाने में व्यापक अनुभव मूल कारखाने द्वारा प्रमाणित विशेष विवरण: SiC प्लेट φ340 मिमी × 2 मिमी (2 इंच * 26 जेब)SiC प्लेट φ340 मिमी × 2 मिमी (4 इंच * 7 जेब)
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SiC-PVD-B-08
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999999999 http://schema.org/InStock USD 2020-12-31
90out of 100based on 100user ratings
PVD के लिए SiC प्लेट आवेदन: एलईडी उद्योगों में एल्यूमीनियम नाइट्राइड फिल्म विकास की पीवीडी प्रक्रिया के लिए SiC प्लेट का व्यापक रूप से एक वफ़र धारक के रूप में उपयोग किया जाता है. सुविधा की आवश्यकताएं: उत्कृष्ट तापीय चालकता अच्छा तापमान एकरूपता अच्छा थर्मल शॉक प्रतिरोध क्यों Kallex दूसरों की तुलना में बेहतर है: विभिन्न विशिष्टताओं में उपलब्ध है,अनुकूलित सेवाएं प्रदान करना उच्च गुणवत्ता और तेजी से वितरण पूरी तरह से सघन,बाहर नहीं-गेसिंग इश्यू
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SiC-Pin Tray-B-09
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999999999 http://schema.org/InStock USD 2020-12-31
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SiC पिन ट्रे आवेदन: एलईडी उद्योग में आईसीपी नक़्क़ाशी प्रक्रिया के लिए SiC पिन ट्रे सामान्य पॉकेट प्रकारों की ट्रे को बदल सकती है. सुविधा की आवश्यकताएं: उत्कृष्ट तापीय चालकता प्लाज्मा बमबारी के लिए प्रतिरोध अच्छा तापमान एकरूपता क्यों Kallex दूसरों की तुलना में बेहतर है: विशेष पेटेंट डिजाइन,प्राप्त आरओसी पेटेंट प्रमाण पत्र:नया नहीं.M555559-नया नाम:वेफर कैरियर प्रक्रिया में ग्राहकों के सुधार में सहायता करें अत्यधिक लागत-प्रदर्शन अनुपात और उच्च प्रतिस्पर्धी वेफर में प्रत्येक छोटे आंशिक क्षेत्र की समरूपता में सुधार एक ही वाहक में वेफर्स के बीच प्रक्रिया के परिणामों के अंतर को कम करें अंतिम जीवन सामान्य प्रकार की जेब से चौगुना है,जो प्लेट की उपयोग लागत को बहुत बचा सकता है
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सर्वोत्तम <खोजने के लिए सिलिकॉन कार्बाइड प्लेट, आपको उच्चतम गुणवत्ता के बारे में जानने की आवश्यकता हैसिलिकॉन कार्बाइड सैंडिंग डिस्क निर्माता, आपूर्तिकर्ता, थोक व्यापारी, और वितरक, OEM और ODM एक कारखाने से Taiwan में
SiC-Star Disc-B-10
none
999999999 http://schema.org/InStock USD 2020-12-31
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SiC स्टार डिस्क आवेदन: III के लिए MOCVD प्रतिक्रिया कक्ष में SiC केंद्र प्लेट और डिस्क का उपयोग किया जाता है-वी यौगिक अर्धचालक उपकला प्रक्रिया. सुविधा की आवश्यकताएं: उच्च तापमान प्रतिरोधी उच्च तापीय चालकता कोई कण मुद्दा अच्छा थर्मल स्थिरता क्यों Kallex दूसरों की तुलना में बेहतर है: अनुकूलित सेवाएं स्थिर गुणवत्ता और तेजी से वितरण एक्यूपॉइंट में फ्लैटनेस अच्छी है अत्यधिक लागत-प्रदर्शन अनुपात लंबे समय तक चलने वाला जीवन
हम आपके साथ हाथ मिलाना चाहते हैं ताकि राज्य को बाहर किया जा सके

सिलिकॉन कार्बाइड प्लेट

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