Keramik Aluminium Oksida

Bushing rol keramik Aplikasi: Bushing roller keramik banyak digunakan di TFT-Peralatan proses CVD array LCD. Persyaratan fitur: Ketahanan suhu tinggi Ketahanan korosi asam dan alkali Ketahanan abrasi Isolasi yang bagus Koefisien gesekan rendah Permukaan halus Mengapa Kallex lebih baik dari yang lain: Layanan yang disesuaikan termasuk daur ulang,bersih,memperbarui dan memperbaiki layanan purnajual Kualitas stabil dan pengiriman cepat Biaya tinggi-rasio kinerja dan kompetitif Menghemat biaya terkait proses

Angkat pin Aplikasi: Pin angkat alumina banyak digunakan di TFT-LCD(Tipis-Cairan Transistor Film-Layar Kristal)proses array. Persyaratan fitur: Ketahanan yang baik terhadap korosi asam dan alkali Kekuatan suhu tinggi Ketahanan abrasi Isolasi yang bagus Permukaan halus Mengapa Kallex lebih baik dari yang lain: Layanan yang disesuaikan Kualitas tinggi dan pengiriman cepat

Keramik terkait dengan proses panel Aplikasi: Banyak digunakan di TFT-Peralatan proses CVD array LCD Komponen pelapis optoelektronik Persyaratan fitur: Ketahanan korosi asam dan alkali Resistensi kejutan termal Isolasi yang bagus Ketahanan aus Koefisien gesekan rendah Mengapa Kallex lebih baik dari yang lain: Layanan yang disesuaikan termasuk daur ulang,bersih,memperbarui dan memperbaiki layanan purnajual Kualitas tinggi dan pengiriman cepat Biaya tinggi-rasio kinerja dan kompetitif Hidup tahan lama Meningkatkan efisiensi produksi peralatan Grosir atau eceran tersedia

Bagian aluminium oksida (Al2O3) Aplikasi: Komponen periferal untuk perangkat dengan kisaran suhu tinggi seperti konsol pemanas Penanganan komponen untuk proses perlakuan panas Komponen di ruang implantasi ion Bantalan untuk instrumen presisi Panas-lembaran keramik tahan Persyaratan fitur: Konduktivitas termal yang baik Ketahanan kejut termal yang baik Resistensi asam dan alkali Kekerasan tinggi Ketahanan abrasi Isolasi yang bagus Mengapa Kallex lebih baik dari yang lain: Layanan yang disesuaikan Kualitas stabil dan pengiriman cepat

Al2O3 Jari Aplikasi: Jari Al2O3 digunakan dalam peralatan transfer wafer otomatisasi yang telah banyak diterapkan di industri semikonduktor, optoelektronik, energi surya. Persyaratan fitur: Kekerasan tinggi Ketahanan kejut termal yang baik Tahan korosi asam dan alkali Tahan suhu tinggi Koefisien muai panas yang rendah Mengapa Kallex lebih baik dari yang lain: Layanan yang disesuaikan Memberikan pengembangan dan solusi Berbagai jenis dan cocok untuk setiap peralatan