LPCVD Wafer Boat

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La nostra esperienza ci ha permetterci di accertare la

LPCVD Wafer Boat

sottoponendo la nostra prodotti misure rigorose di controllo di qualità durante l'ogni fase di produzione e mentre la spedizione. Siamo sinceramente il benvenuto a tutti gli amici relativi dappertutto per venire per la chiamata e la cooperazione!
  • LPCVD Wafer Boat - SiC-Boat-B-58
LPCVD Wafer Boat
Modello - SiC-Boat-B-58
SiC LPCVD wafer boat

Applicazione:
  • Barche per wafer SiC LPCVD per l'industria dei semiconduttori,energia solare e altre industrie;processo di diffusione,processo di ossidazione a secco,processo di ossidazione a umido,processo di ricottura e processo di deposizione.

Requisiti delle funzionalità:
  1. Resistenza alle alte temperature e alta capacità di carico
  2. Stabilità chimica ad alta temperatura
  3. Nessun problema di particelle
  4. Nessun problema di deformazione ad alta temperatura

Perché Kallex è migliore di altri:
  1. Disponibile per varie specifiche,fornendo anche servizi personalizzati
  2. Alta qualità e consegna veloce
  3. Rispetto alla barca al quarzo,la barca in carburo di silicio non solo ha una lunga durata, ma può anche migliorare la velocità di trasmissione dell'attrezzatura
  4. Costo elevato-efficace e ad alta competitività
  5. Lunga durata

Specifiche:
  1. Dimensione del wafer applicabile:6 pollici quadrati
  2. Per apparecchiature Centrotherm
Kallex Co., Ltd.
SiC-Boat-B-58
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Per trovare e acquistare i migliori LPCVD Wafer Boat, devi conoscere la massima qualità di LPCVD Wafer Boat produttore, fornitore, grossista, distributore, OEM e ODM di una fabbrica in Taiwan
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Wafer verticale SiC Applicazione: Wafer verticali SiC per l'industria dei semiconduttori,Industria fotoelettrica LED,energia solare e altre industrie;processo di diffusione,processo di ossidazione a secco,processo di ossidazione a umido,processo di tempra,processo di deposizione chimica da vapore. Requisiti delle funzionalità: Resistenza alle alte temperature Stabilità chimica ad alta temperatura Nessun problema di particelle Perché Kallex è migliore di altri: Vasta esperienza in barche SiC per un design personalizzato Alta qualità e consegna veloce Utilizzando materiale denso di carburo di silicio sinterizzato Temperatura massima di esercizio 1,800˚C Costo elevato-rapporto prestazioni e competitivo Vita di lunga durata Specifiche:   Dimensioni wafer applicabili:6 pollici,8 pollici,12 pollici Per apparecchiature TEL
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Cialda tonda orizzontale SiC Applicazione: I wafer rotondi orizzontali SiC sono ampiamente utilizzati come supporto per wafer nei processi di diffusione ad alta temperatura nell'industria dei semiconduttori. Requisiti delle funzionalità: Resistenza alle alte temperature Stabilità chimica ad alta temperatura Resistente alla corrosione da acidi e alcali Nessun problema di particelle Perché Kallex è migliore di altri: Disponibile in varie specifiche,fornendo anche servizi personalizzati Alta qualità e consegna veloce Utilizzando materiale denso di carburo di silicio sinterizzato La temperatura massima di esercizio può raggiungere 1,800˚C Nessun problema di deformazione Costo elevato-rapporto prestazioni e competitivo Vita di lunga durata
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Cialda quadrata orizzontale SiC Applicazione: Le barche per wafer quadrate orizzontali SiC sono ampiamente utilizzate come porta wafer nei processi di diffusione ad alta temperatura nell'industria delle celle solari.   Requisiti delle funzionalità: Resistenza alle alte temperature Stabilità chimica ad alta temperatura Nessun problema di particelle Nessun problema di deformazione ad alta temperatura Perché Kallex è migliore di altri: Assemblando materiale denso di carburo di silicio sinterizzato Disponibile per varie specifiche,fornendo anche servizi personalizzati Alta qualità e consegna veloce Temperatura massima di esercizio 1,800˚C Rispetto alla barca al quarzo,la barca in carburo di silicio può migliorare il tasso di utilizzo dell'attrezzatura Costo elevato-rapporto prestazioni e competitivo Vita di lunga durata Specifiche:   Dimensioni wafer applicabili:4 pollici~5 pollici
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Barca a cialda orizzontale SiC Applicazione: I wafer orizzontali SiC sono ampiamente utilizzati come porta wafer nei processi di diffusione ad alta temperatura nell'industria dei semiconduttori discreti. Requisiti delle funzionalità: Resistenza alle alte temperature Stabilità chimica ad alta temperatura Nessun problema di particelle Riduci i costi Convenienza Perché Kallex è migliore di altri: Disponibile in varie specifiche,fornendo anche servizi personalizzati Alta qualità e consegna veloce Utilizzando materiale denso di carburo di silicio sinterizzato La temperatura massima di esercizio può raggiungere 1,800˚C Costo elevato-rapporto prestazioni e competitivo Vita di lunga durata Può migliorare la qualità e l'output dei wafer Risparmia sui costi relativi al processo specificazioni: Dimensioni wafer applicabili:3 pollici~6 pollici
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SiC BBr3 wafer boat Applicazione: Le barche per wafer SiC BBr3 sono ampiamente utilizzate come supporto per wafer nei processi di diffusione ad alta temperatura nell'industria delle celle solari. Requisiti delle funzionalità: Resistenza alle alte temperature e alta capacità di carico Resistente alla corrosione acida e alcalina Stabilità chimica ad alta temperatura Nessun problema di particelle Nessun problema di deformazione ad alta temperatura Perché Kallex è migliore di altri: Vasta esperienza in barca SiC per design personalizzato Alta qualità e consegna veloce Temperatura massima di esercizio 1,800˚C Migliora la qualità e il throughput dei wafer OEM e ODM Specifiche: Dimensione del wafer applicabile:6 pollici quadrati
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