Disco In Carburo Di Silicio

Kallex Co., Ltd. è il leader Taiwan produttore, fornitore ed esportatore di Disco In Carburo Di Silicio. Siamo coinvolti nell'offerta di personalizzazioni in termini di dimensioni, design, modello e colore secondo le specifiche dei clienti. Garantiamo la migliore qualità, che è conforme ai principi di qualità globali poiché la nostra unità di produzione domestica è installata con macchinari altamente sviluppati per garantire la qualità.
Siamo nella linea di esportazione

Disco In Carburo Di Silicio

. I nostri prodotti godono di un'ottima reputazione tra i nostri clienti. Sarai soddisfatto della qualità e del prezzo ragionevole. Spero di collaborare con te.
  • Disco In Carburo Di Silicio - SiC-Star Disc-B-10
Disco In Carburo Di Silicio
Modello - SiC-Star Disc-B-10
Disco stella SiC

Applicazione:
  • La piastra centrale e i dischi SiC sono utilizzati nella camera di reazione MOCVD per III-V processo epitassiale semiconduttore composto.

Requisiti delle funzionalità:
  1. Resistente alle alte temperature
  2. Elevata conducibilità termica
  3. Nessun problema di particelle
  4. Buona stabilità termica

Perché Kallex è migliore di altri:
  1. Servizi personalizzati
  2. Qualità stabile e consegna veloce
  3. La piattezza del punto terapeutico è buona
  4. Costo elevato-rapporto di prestazione
  5. Vita di lunga durata
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SiC-Star Disc-B-10
none
999999999 http://schema.org/InStock USD 2020-12-31
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Prodotti lista
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Per trovare e acquistare i migliori Disco In Carburo Di Silicio, devi conoscere la massima qualità di Disco In Carburo Di Silicio produttore, fornitore, grossista, distributore, OEM e ODM di una fabbrica in Taiwan
SiC-ICP-B-05
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Piastra SiC per processo di incisione ICP Applicazione: La piastra SiC viene utilizzata come supporto per wafer per il processo di incisione ICP nell'industria dei LED. Requisito di funzionalità: Eccellente conducibilità termica Resistente agli shock al plasma Buona uniformità di temperatura Perché Kallex è migliore di altri: Disponibile in varie specifiche,fornendo anche servizi personalizzati Qualità stabile e consegna veloce Servizio di ristrutturazione
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SiC-RTA-B-06
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Piastra SiC per RTA Applicazione: La piastra SiC è ampiamente utilizzata come supporto per wafer nell'RTA(ricottura termica rapida)processo nelle industrie dei LED e dei semiconduttori. Requisiti delle funzionalità: Buona conducibilità termica Buona resistenza agli shock termici Basso coefficiente di dilatazione termica Buona uniformità di temperatura Perché Kallex è migliore di altri: Disponibile in varie specifiche,fornendo anche servizi personalizzati Alta qualità e consegna veloce OEM e ODM
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SiC-PSS-B-07
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Piastra SiC per PSS Applicazione: La piastra SiC viene utilizzata come supporto per wafer per PSS(substrato in zaffiro con motivo)processo di incisione nelle industrie LED. Requisiti delle funzionalità: Conduttività termica Resistente al bombardamento di plasma Buona uniformità di temperatura Perché Kallex è migliore di altri: Disponibile in varie specifiche,fornendo anche servizi personalizzati Qualità stabile e consegna veloce Costo alto-rapporto prestazioni e competitivo Vasta esperienza nella realizzazione di vassoi Certificato dalla fabbrica originale specificazioni: Piastra SiC φ340mm × 2mm (2 pollici * 26 tasche)Piastra SiC φ340mm × 2mm (4 pollici * 7 tasche)
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SiC-PVD-B-08
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Piastra SiC per PVD Applicazione: La piastra SiC è ampiamente utilizzata come supporto per wafer per il processo PVD di crescita del film di nitruro di alluminio nelle industrie dei LED. Requisiti delle funzionalità: Eccellente conducibilità termica Buona uniformità di temperatura Buona resistenza agli shock termici Perché Kallex è migliore di altri: Disponibile in varie specifiche,fornendo anche servizi personalizzati Alta qualità e consegna veloce Completamente densificato,no fuori-problema di gas
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SiC-Pin Tray-B-09
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Svuotatasche SiC Applicazione: Il vassoio per pin SiC per il processo di incisione ICP nell'industria dei LED può sostituire il vassoio dei normali tipi di tasca. Requisiti delle funzionalità: Eccellente conducibilità termica Resistenza al bombardamento di plasma Buona uniformità di temperatura Perché Kallex è migliore di altri: Design esclusivo brevettato,ottenuto il certificato di brevetto ROC:Nuovo n.M555559-Nuovo nome:vettore di wafer Assistere i clienti nel processo di miglioramento Costo elevato-rapporto di prestazione e alto competitivo Migliora l'omogeneità di ogni piccola area parziale nel wafer Riduce la differenza dei risultati del processo tra i wafer nello stesso supporto La durata della vita è quadrupla rispetto ai soliti tipi di tasca,che può notevolmente risparmiare il costo di utilizzo del piatto
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