Piastre In Carburo Di Silicio

Abbiamo prodotto, fornito ed esportato ai nostri clienti in tutto il mondo con una linea completa di alta qualità Piastre In Carburo Di SilicioAbbiamo una squadra qualificata di operai altamente qualificati e dedicati che fanno del loro meglio per produrre i migliori prodotti di qualità per i clienti internazionali. E ci sforziamo di soddisfare un'ampia gamma di esigenze aziendali dei nostri clienti e di fornire i nostri prodotti di qualità in tutto il mondo. Sulla base delle nostre attrezzature avanzate e dell'eccellente tecnologia, offriamo una vasta gamma di prodotti che si basano su un rigoroso controllo di qualità, una gestione scientifica e procedure multiple durante il controllo di qualità. Diamo il benvenuto a vecchi e nuovi clienti per contattarci per futuri rapporti commerciali.
Produciamo prodotti attraenti e durevoli

Piastre In Carburo Di Silicio

per soddisfare tutte le richieste dei clienti, la nostra azienda rispetterà le seguenti regole: spirito di iniziativa, cooperazione onesta, alta qualità, alta tecnologia. Che fanno sì che i nostri prodotti vendano bene in tutto il mondo
  • Piastre In Carburo Di Silicio - SiC-ICP-B-05
Piastre In Carburo Di Silicio
Modello - SiC-ICP-B-05
Piastra SiC per processo di incisione ICP

Applicazione:
  • La piastra SiC viene utilizzata come supporto per wafer per il processo di incisione ICP nell'industria dei LED.

Requisito di funzionalità:
  1. Eccellente conducibilità termica
  2. Resistente agli shock al plasma
  3. Buona uniformità di temperatura

Perché Kallex è migliore di altri:
  1. Disponibile in varie specifiche,fornendo anche servizi personalizzati
  2. Qualità stabile e consegna veloce
  3. Servizio di ristrutturazione
Kallex Co., Ltd.
SiC-ICP-B-05
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999999999 http://schema.org/InStock USD 2020-12-31
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SiC-RTA-B-06
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Piastra SiC per RTA Applicazione: La piastra SiC è ampiamente utilizzata come supporto per wafer nell'RTA(ricottura termica rapida)processo nelle industrie dei LED e dei semiconduttori. Requisiti delle funzionalità: Buona conducibilità termica Buona resistenza agli shock termici Basso coefficiente di dilatazione termica Buona uniformità di temperatura Perché Kallex è migliore di altri: Disponibile in varie specifiche,fornendo anche servizi personalizzati Alta qualità e consegna veloce OEM e ODM
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SiC-PSS-B-07
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Piastra SiC per PSS Applicazione: La piastra SiC viene utilizzata come supporto per wafer per PSS(substrato in zaffiro con motivo)processo di incisione nelle industrie LED. Requisiti delle funzionalità: Conduttività termica Resistente al bombardamento di plasma Buona uniformità di temperatura Perché Kallex è migliore di altri: Disponibile in varie specifiche,fornendo anche servizi personalizzati Qualità stabile e consegna veloce Costo alto-rapporto prestazioni e competitivo Vasta esperienza nella realizzazione di vassoi Certificato dalla fabbrica originale specificazioni: Piastra SiC φ340mm × 2mm (2 pollici * 26 tasche)Piastra SiC φ340mm × 2mm (4 pollici * 7 tasche)
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SiC-PVD-B-08
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Piastra SiC per PVD Applicazione: La piastra SiC è ampiamente utilizzata come supporto per wafer per il processo PVD di crescita del film di nitruro di alluminio nelle industrie dei LED. Requisiti delle funzionalità: Eccellente conducibilità termica Buona uniformità di temperatura Buona resistenza agli shock termici Perché Kallex è migliore di altri: Disponibile in varie specifiche,fornendo anche servizi personalizzati Alta qualità e consegna veloce Completamente densificato,no fuori-problema di gas
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SiC-Pin Tray-B-09
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Svuotatasche SiC Applicazione: Il vassoio per pin SiC per il processo di incisione ICP nell'industria dei LED può sostituire il vassoio dei normali tipi di tasca. Requisiti delle funzionalità: Eccellente conducibilità termica Resistenza al bombardamento di plasma Buona uniformità di temperatura Perché Kallex è migliore di altri: Design esclusivo brevettato,ottenuto il certificato di brevetto ROC:Nuovo n.M555559-Nuovo nome:vettore di wafer Assistere i clienti nel processo di miglioramento Costo elevato-rapporto di prestazione e alto competitivo Migliora l'omogeneità di ogni piccola area parziale nel wafer Riduce la differenza dei risultati del processo tra i wafer nello stesso supporto La durata della vita è quadrupla rispetto ai soliti tipi di tasca,che può notevolmente risparmiare il costo di utilizzo del piatto
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SiC-Star Disc-B-10
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Disco stella SiC Applicazione: La piastra centrale e i dischi SiC sono utilizzati nella camera di reazione MOCVD per III-V processo epitassiale semiconduttore composto. Requisiti delle funzionalità: Resistente alle alte temperature Elevata conducibilità termica Nessun problema di particelle Buona stabilità termica Perché Kallex è migliore di altri: Servizi personalizzati Qualità stabile e consegna veloce La piattezza del punto terapeutico è buona Costo elevato-rapporto di prestazione Vita di lunga durata
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